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2023-09-04
顯影是在硅片表面光刻膠中產(chǎn)生圖形的關(guān)鍵步驟。光刻膠上的可溶解區(qū)域被化學(xué)顯影劑溶解，將可見(jiàn)的島或者窗口圖形留在硅片表面。最常見(jiàn)的顯影方法是旋轉(zhuǎn)...
2023-09-01
EUV與現(xiàn)有光刻技術(shù)的主要區(qū)別，在于極紫外投影光刻系統(tǒng)使用了反射式掩模。反射式掩模采用堅(jiān)固的背支撐結(jié)構(gòu)．可以有效地防止由裝校應(yīng)力以及熱應(yīng)力產(chǎn)...
2023-08-30
臨床醫(yī)學(xué)全面走向個(gè)性化醫(yī)療診療是當(dāng)今醫(yī)學(xué)發(fā)展的一大方向，精準(zhǔn)的體外診斷技術(shù)是正確診療的基本保證。而體外診斷基本主要是基于體液（血液，尿液，唾...
2023-08-30
光刻機(jī)的工作過(guò)程是這樣的：逐一曝光完硅片上所有的場(chǎng)（field），亦即分步，然后更換硅片，直至曝光完所有的硅片；當(dāng)對(duì)硅片進(jìn)行工藝處理結(jié)束后，更換掩...
2023-08-29
激光直寫(xiě)光刻(laser direct write lithography，LDWL)作為一種無(wú)掩模光刻技術(shù)，是利用強(qiáng)度可變的激光束對(duì)基片表面的抗蝕材料實(shí)施變劑量曝光，顯影...
2023-08-29
離子刻蝕主要應(yīng)用在微電子制作工藝中，所有主要的處理對(duì)象是硅，用于精確圖形轉(zhuǎn)移。此外其還廣泛應(yīng)用于等離子刻蝕平板、薄膜刻蝕以及纖維刻蝕中。 1.精...
公安備案號(hào)：蘇公網(wǎng)安備32059002006658號(hào)
微特云辦公系統(tǒng) 微納制造 MEMS設(shè)計(jì)
