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化學鍍鎳的工藝特點
2023-09-13

化學鍍鎳技術是采用金屬鹽和還原劑,在材料表面上發(fā)生自催化反應獲得鍍層的方法。到目前為止，化學鍍鎳是國外發(fā)展最快的表面處理工藝之一，且應用范圍也...
濕法刻蝕工藝
2023-09-12

干法刻蝕（Dry Etching）是使用氣體刻蝕介質(zhì)。常用的干法刻蝕方法包括物理刻蝕（如離子束刻蝕）和化學氣相刻蝕（如等離子體刻蝕）等。與干法蝕刻相...
EUV技術對光源的要求
2023-09-11

開發(fā)EUV光源面臨的最大挑戰(zhàn) 在于。如何在提高EUV光源瓦數(shù)的同時，降低等離子氣氛中微粒、高速粒子和其它污染物，否則光源將會快速惡化。EUV光...
極紫外光刻技術
2023-09-08

對于光刻機而言，最核心的技術就是光源，光刻機按光源技術進步次序可分為紫外光（UV）、深紫外光（DUV）、極紫外光（EUV）三大類。極紫外光刻...
磁控濺射鍍膜粘附力不好如何解決？
2023-09-07

磁控濺射（Magnetron Sputtering）是一種常見的物理氣相沉積 (PVD) 工藝，是制造半導體、磁盤驅(qū)動器和光學膜層的主要薄膜沉積方法。磁控濺射具有...
MEMS技術的加工工藝
2023-09-06

（一）硅表面微機械加工技術美國加州大學Berkeley分校的Sensor and Actuator小組首先完成了三層多晶硅表面微機械加工工藝，確立了硅表面微加工工藝...

公安備案號：蘇公網(wǎng)安備32059002006658號