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我們知道，在微納米技術(shù)的發(fā)展中MEMS一直是一個(gè)重要的應(yīng)用方向，MEMS技術(shù)在尺度上的特點(diǎn)是橫跨1um到1mm尺度且結(jié)構(gòu)復(fù)雜，除了常規(guī)我們使用的光刻及刻蝕工藝外，電鑄也是MEMS中最常見(jiàn)的技術(shù)之一。除此之外，隨著微納米技術(shù)的發(fā)展，LIGA也在向納米尺度方向延伸，所面臨的技術(shù)難度也在增加。電鑄的英文簡(jiǎn)寫(xiě)為L(zhǎng)IGA，源自于德語(yǔ)Lithgraphie，Galvanoformung和Abformung三個(gè)單詞的縮寫(xiě)，表示深層光刻、電鍍、注塑三種技術(shù)的有機(jī)結(jié)合。是20世紀(jì)80年代德國(guó)卡爾斯魯厄原子能研究所W.Ehrfeld等發(fā)明的一種微型零件的新工藝方法。

LIGA技術(shù)特點(diǎn)

使用LIGA技術(shù)超微細(xì)加工的特點(diǎn)很明顯，主要有以下幾點(diǎn)：

優(yōu)點(diǎn)：

· 可制造有較大深寬比的微結(jié)構(gòu)，這種方法可制作微器件的高度可達(dá)1000um，可以加工橫向尺寸   為0.5um，和高深寬比大于200的立體微結(jié)構(gòu)；

· 取材廣泛，可以是金屬、陶瓷、聚合物、玻璃等；

· 可以制作復(fù)雜圖形結(jié)構(gòu)，精度高，加工精度可達(dá)0.1um；

· 可重復(fù)復(fù)制，符合工業(yè)上大批量生產(chǎn)要求，成本低；

缺點(diǎn)：

· 成本高、難以加工很有曲面、斜面和高密度微尖陣列的微器件，不能生成口小肚大的腔體結(jié)構(gòu)等。

LIGA技術(shù)的工藝流程

LIGA工藝流程一般包括以下四個(gè)重要步驟：X射線曝光、顯影、電鑄制模、注塑復(fù)制。如下圖所示LIGA一般工藝流程：